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内容简介：本书介绍了CatCVD技术，包括其基本原理、设备设计及应用，具体包括CatCVD的物理基础及其与等离子增强化学气相沉积的区别、CatCVD中化学反应的分析方法及基本原理、CatCVD物理化学基础、CatCVD制备的无机薄膜性能、引发化学气相沉积(iCVD)合成有机聚合物、CatCVD设备运行中的物理基础与技术、CatCVD在太阳电池和各种半导体器件中的应用、CatCVD系统中的活性基团及其应用，最后介绍了利用CatCVD腔室中产生的活性基团，在低温下进行半导体掺杂。