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硅基氮化镓外延材料与芯片

著者李国强著
ISBN9787030809582
分类号TN304.2 电子技术、通信技术
学科工学
版次第1版
出版社科学出版社
丛书名半导体科学与技术丛书
出版年2025
价格¥158.00
页码11263页
类型 📄 纸质书
核心评分9.4/10
读者对象
主题词硅基材料
内容简介:本书共8章。其中,第1章介绍Si基GaN材料与芯片的研究意义,着重分析了GaN材料的性质和Si基GaN外延材料与芯片制备的发展历程。第2章从Si基GaN材料生长机理出发,依次介绍了GaN薄膜、GaN量子点、GaN纳米线和二维GaN生长所面临的技术难点及对应的生长技术调控手段。第3-7章依次介绍了Si基GaNLED芯片、Si基GaN高电子迁移率晶体管、Si基GaN肖特基二极管、Si基GaN光电探测芯片和Si基GaN光电解水芯片的工作原理、技术瓶颈、制备工艺以及芯片性能调控技术,并介绍了上述各种Si基GaN芯片的应用与发展趋势。第8章对Si基GaN集成芯片技术进行了阐述。
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