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物理气相沉积工艺及设备

著者赵晋荣主编
ISBN9787121516573
分类号TG174.444 金属学与金属工艺
学科工学
版次第1版
出版社电子工业出版社
丛书名集成电路系列丛书
出版年2026
价格¥99.00
页码13191页
类型 📄 纸质书
核心评分9.3/10
读者对象—
主题词物理气相沉积
内容简介：本书介绍了物理气相沉积工艺及设备的问题和解决方案，内容包括集成电路产业简介、等离子体的基本概念、物理气相沉积技术的发展与概述、逻辑芯片制造中的物理气相沉积工艺、封装技术中的物理气相沉积工艺、物理气相沉积设备、磁控技术。
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